上海奥法美嘉生物科技有限公司代理商

9

手机商铺

qrcode
商家活跃:
产品热度:
  • NaN
  • 0.2999999999999998
  • 0.2999999999999998
  • 2.3
  • 2.3
代理商

上海奥法美嘉生物科技有限公司

入驻年限:9

  • 联系人:

    奥法美嘉客服

  • 所在地区:

    上海 闵行区

  • 业务范围:

    实验室仪器 / 设备、技术服务、试剂

  • 经营模式:

    生产厂商 代理商 经销商

在线沟通

技术资料/正文

CMP 研磨液中颗粒的评价技术

190 人阅读发布时间:2021-04-19 11:14

在化学机械抛光过程中,各种研磨液用于晶圆平坦化处理。这些研磨液中颗粒浓度可达>1015颗/ml。除了用于抛光的大量颗粒外,研磨液中还含有相对较少>1.0um的颗粒(二氧化硅而言 104-106颗/ml;氧化铝而言109颗/ml)。这些颗粒可能会在晶圆表面平坦化处理的时候造成微划伤

已开发出相应的技术用于评估研磨液中>1.0um的不良颗粒以及这些颗粒的浓度。这些技术可以帮助我们确认系统中的颗粒污染源,以及帮助评估过滤的有效性以及减少这些不良颗粒。
 
资料格式:

PSS CMP9 评价Slurry中粒子的方法.docx

查看详细文档

上一篇

浆料粒径对CMP工艺缺陷水平的影响

下一篇

政策导向下 原料药产业迎绿色发展机遇

我的询价