通过单颗粒光学传感(SPOS)对CMP浆料进行超灵敏的在线监测
228 人阅读发布时间:2022-07-19 13:16
Application Note AN–CMP11 Ultra-Sensitive Online Monitoring of CMP Slurries by Single-Particle Optical Sensing (SPOS)
通过单颗粒光学传感(SPOS)对CMP浆料进行超灵敏的在线监测
我们已经开发了一个强大的工具,可以对CMP浆料进行连续的在线监控。我们的新AccuSizer 780 / OL系统基于单颗粒光学传感(SPOS)技术,可以快速,准确地确定大于0.5微米的“异常”颗粒的粒径分布(PSD),这可能会导致严重的缺陷。抛光过程中的晶圆表面。 PSD中这些大颗粒“尾巴”的来源包括浆液分配系统中的泵和过滤器不良,以及由于pH或热冲击引起的胶体不稳定性的发生,以及其他影响。与“集成”方法(例如激光衍射(将亚微米区域的Mie散射与1微米以上的Fraunhofer衍射结合在一起))相比,SPOS技术仅对总粒子数量的一小部分敏感,例如,大于0.5μm的颗粒。但是,SPOS方法可为这些较大的颗粒提供真实的分布,而不会出现严重困扰激光衍射的严重伪影。由于SPOS方法具有较高的灵敏度和分辨率,因此很容易揭示出较大的离群值(通常是较小的基团的团聚体)的浓度变化很小。这些“细节”对于评估CMP浆料的质量至关重要,但通常会被诸如激光衍射或超声衰减之类的集成方法完全忽略。 780 / OL系统利用专有的两阶段自动稀释系统,该系统可以容纳组成和浓度变化很大的浆料。 SPOS传感器基于新颖的设计,该技术结合了光散射和消光的物理原理,使其能够实现高灵敏度和宽动态范围(0.5至400μm)。先进的电子设计可产生高分辨率和稳定性的多通道PSD结果。该系统易于实现,可以在Windows NT下作为应用程序进行操作。作为在线系统的选件,可以提供“ DLS”(动态光散射)模块,该模块能够表征CMP浆料的整个亚微米PSD。将对二氧化硅,氧化铝和氧化铈CMP浆料的基本原理以及代表性PSD结果进行审查。
资料格式:
18 PSS AN CMP11 slurry 监测.docx
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