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技术资料/正文
PSI高压微射流均质机CATALOGUE
159 人阅读发布时间:2020-07-09 15:39
近年来,高压微射流均质机的应用需求正在逐步 扩大。与传统的动态阀高压均质机相比,采用固定几何 结构均质腔的高压微射流均质机能够以更加稳定可控 的剪切力处理物料,使得样品在均一性、分散性等方面 上更胜一筹,且平均粒径更小。该类型均质机无需一味 追求超高压力,其核心工艺点为合适的高压力配合精 密的微管通道即可获得超高剪切力,从而应对各类复 杂样品的均质、乳化、分散需求;PSI更以高精密度的零 配件确保更可控、更稳定的生产工艺。
PSI-20高压微射流均质机按高标准的医药级别设计而成:优选镜 面抛光的316不锈钢确保材质清洁,现代化数字屏幕有效避免传统机械 油压表显压力对物料污染的可能性,符合GMP法规的数据存储、溯源系 统将为企业的合法研发及生产保驾护航。 PSI-20系列小巧紧凑的机身及超低运行音量完美适应实验室研 发,高压力、高处理流量使其亦能满足中试甚至于小规模生产环境。通 过提供最大2069bar的均质压力,搭配PSI专有技术研发的均质腔可获 得优于市面上同类设备的超高剪切力;其最小进样量100ml,废弃体积 仅为15ml。 PSI-20-1搭配仅75μm孔径的固定Y型单槽均质腔,提供高效乳化、 混合及均质的解决方案。 PSI-20-2可搭配87μm、100μm、200μm孔径的固定Z型单槽均质 腔,提供高效降低粒径分布、分散样品、去除团聚及均质等的解决方案。
PSI-40高压微射流均质机按高标准的医药级别设计而成:优选镜 面抛光的316不锈钢确保材质清洁,现代化数字屏幕有效避免传统机 械油压表显压力对物料污染的可能性,符合GMP法规的数据存储、溯 源系统将为企业的合法研发及生产保驾护航。 PSI-40系列搭载了双泵压头,可达最高84l/h的处理流量完美应对 中试生产环境;经济节能的单泵压头模式使其亦可兼任研发工作;高效 的双泵压头循环模式搭配自动进料系统使其能够胜任规模化生产的任 务;其更可作为PSI Infinity定制机组的单元模块,可以游刃有余地应对 大生产及更多复杂生产需求。 作为中试机型的佼佼者,PSI-40系列依旧具备小巧紧凑的机身及 超低运行音量。通过提供最大2069bar的均质压力,搭配PSI专有技术 研发的均质腔可获得优于市面上同类设备的超高剪切力,同时其最小 进样量为150ml,废弃体积仅为30ml。 PSI-40-1搭配仅75μm孔径的固定Y型双槽均质腔,提供高效乳化、 混合及均质的解决方案。 PSI-40-2可搭配87μm、100μm、200μm孔径的固定Z型双槽均质 腔,提供高效降低粒径分布、分散样品、去除团聚及均质等的解决方案。
PSI-20高压微射流均质机按高标准的医药级别设计而成:优选镜 面抛光的316不锈钢确保材质清洁,现代化数字屏幕有效避免传统机械 油压表显压力对物料污染的可能性,符合GMP法规的数据存储、溯源系 统将为企业的合法研发及生产保驾护航。 PSI-20系列小巧紧凑的机身及超低运行音量完美适应实验室研 发,高压力、高处理流量使其亦能满足中试甚至于小规模生产环境。通 过提供最大2069bar的均质压力,搭配PSI专有技术研发的均质腔可获 得优于市面上同类设备的超高剪切力;其最小进样量100ml,废弃体积 仅为15ml。 PSI-20-1搭配仅75μm孔径的固定Y型单槽均质腔,提供高效乳化、 混合及均质的解决方案。 PSI-20-2可搭配87μm、100μm、200μm孔径的固定Z型单槽均质 腔,提供高效降低粒径分布、分散样品、去除团聚及均质等的解决方案。
PSI-40高压微射流均质机按高标准的医药级别设计而成:优选镜 面抛光的316不锈钢确保材质清洁,现代化数字屏幕有效避免传统机 械油压表显压力对物料污染的可能性,符合GMP法规的数据存储、溯 源系统将为企业的合法研发及生产保驾护航。 PSI-40系列搭载了双泵压头,可达最高84l/h的处理流量完美应对 中试生产环境;经济节能的单泵压头模式使其亦可兼任研发工作;高效 的双泵压头循环模式搭配自动进料系统使其能够胜任规模化生产的任 务;其更可作为PSI Infinity定制机组的单元模块,可以游刃有余地应对 大生产及更多复杂生产需求。 作为中试机型的佼佼者,PSI-40系列依旧具备小巧紧凑的机身及 超低运行音量。通过提供最大2069bar的均质压力,搭配PSI专有技术 研发的均质腔可获得优于市面上同类设备的超高剪切力,同时其最小 进样量为150ml,废弃体积仅为30ml。 PSI-40-1搭配仅75μm孔径的固定Y型双槽均质腔,提供高效乳化、 混合及均质的解决方案。 PSI-40-2可搭配87μm、100μm、200μm孔径的固定Z型双槽均质 腔,提供高效降低粒径分布、分散样品、去除团聚及均质等的解决方案。